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Volume 25:1, January 2000

Special Issue on Canadian MEMS (Microelectromechanical Systems) Research

Introduction

Measuring the deflection of CMOS micromachined cantilever devices using a piezoresistive sensor
Mesure de la déflexion de cantilevers CMOS micro-machinés utilisant un capteur piézo-électrique
Yuan Ma, Alexander M. Robinson, Ron P.W. Lawson, Keith B. Brown, Derek Strembicke, Walter Allegretto, and Tiansheng Zhou
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Surface-micromachined reconfigurable multi-slit mask
Un masque de surface multi-fentes micro-machiné reconfigurable
S. Bakshi, M. Parameswaran, M. Syrzycki, and D. Crampton
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Micromachined silicon collimating detector array to view objects in a highly scattering medium
Une matrice collimatrice en silicon micro-machiné pour la visualisation d'objets dans des milieux très dispersifs
Moninder S. Tank and Glenn H. Chapman
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Mask-under-etch characterization of Si{110} in TMAH
Caractérisation du silicium {110} en TMAH par un masque sous la gravure
A. Pandy, L.M. Landsberger, and M. Kahrizi
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An IC-compatible process for fabrication of RF switches and tunable capacitors
Un processus de fabrication d'interrupteurs RF et de condensateurs ajustables basé sur une méthode de fabrication de circuits intégrés
R.N. Tait
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CMOS-compatible high-temperature micro-heater: Microstructure release and testing
Un dispositif de chauffage à haute température compatible avec la technologie CMOS: distribution de la micro-structure et tests
O. Grudin, R. Marinescu, L. Landsberger, D. Cheeke, and M. Kahrizi
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Gas-phase xenon difluoride etching of microsystems fabricated through the Mitel 1.5-µm CMOS process
Gravure par difluorure de xénon gazeux de microsystèmes fabriqués avec le procédé Mitel CMOS 1.5 µm
P. Muthukumaran, I. Stiharu, and R.B. Bhat
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Pressure measurement using hysteresis effects in cantilever microstructures
Mesure de pression par effet d'hystérésis dans des micro-structures en cantilever
K.B. Brown, Y. Ma, A. Garcia, W. Allegretto, R.P.W. Lawson, F.E. Vermeulen, and A.M. Robinson
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